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希望兩院院士作為科技界杰出代表,沖鋒在前、勇挑重?fù)?dān),當(dāng)好科技前沿的開拓者、重大任務(wù)的擔(dān)綱者、青年人才成長的引領(lǐng)者、科學(xué)家精神的示范者,為我國科技事業(yè)發(fā)展再立新功!
——習(xí)近平總書記在全國科技大會(huì)、國家科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)勵(lì)大會(huì)、兩院院士大會(huì)上的講話
發(fā)揮國家戰(zhàn)略科技力量作用,弘揚(yáng)科學(xué)家精神,引領(lǐng)工程科技創(chuàng)新,加快突破關(guān)鍵核心技術(shù),強(qiáng)化國家高端智庫職能。
——習(xí)近平總書記在致中國工程院建院30周年賀信中作出的重要指示要求
“10nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體新技術(shù)、新材料發(fā)展趨勢(shì)研究”通過中期評(píng)審
來源:辦公廳《院士通訊》編輯部   發(fā)表時(shí)間:2016-06-08
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    4月6日,上海市經(jīng)信委組織相關(guān)專家對(duì)上海院士中心承擔(dān)的2015年上海市軟件和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展課題研究項(xiàng)目——《10nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體新技術(shù)、新材料發(fā)展趨勢(shì)研究》開展中期評(píng)審。何軍常務(wù)副主任、張衛(wèi)教授代表課題組分別作了工作及課題情況匯報(bào)。

 

    本課題以集成電路新技術(shù)、新材料、新器件的基礎(chǔ)研究為抓手,立足于國際主流的先導(dǎo)工藝技術(shù)方向,重點(diǎn)探討了先進(jìn)的集成電路工藝技術(shù)、三維系統(tǒng)芯片及封裝技術(shù),詳細(xì)研究了上海芯片制造業(yè)未來的工藝技術(shù)、主要發(fā)展方向,并提出了具體的舉措和建議。

 

    專家組經(jīng)過深入討論和綜合評(píng)議,認(rèn)為中期報(bào)告思路清晰、內(nèi)容全面、研究重點(diǎn)與難點(diǎn)準(zhǔn)確,達(dá)到了研究目的和要求。建議課題組進(jìn)一步細(xì)化并完善平臺(tái)建設(shè)、新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化、政府支持及人才培養(yǎng)等方面的內(nèi)容。

 

    市經(jīng)信委電子信息產(chǎn)業(yè)處、市經(jīng)信委發(fā)展研究中心、復(fù)旦大學(xué)、上海大學(xué)、上海集成電路產(chǎn)業(yè)促進(jìn)中心、上海市集成電路行業(yè)協(xié)會(huì)等單位專家出席評(píng)審會(huì)。

 

    (張麗莉、顧錫新)

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